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Modeling Equilibrium Chemistry in Laser Induced Plasmas and Plasma Chemical Reactors

  • A brief introduction will be given on modeling chemical reactions in laser induced plasmas using stoichiometric and non-stoichiometric approaches. Several applications will be considered, which can benefit from such modeling. Those include plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD), surface modification and surface coating, and molecular analysis by LIBS. Each application will be illustrated by simulations of relevant chemical systems. For PECVD, chemical systems are BCl3/H2/Ar, BF3/H2/Ar, BCl3/BF3, Mo/BF3/H2; for surface modification/coating it is Ti/air; for molecular LIBS they are CaCO3/Ar, Ca(OH)2/Ar, and CaCl2/Ar. Advantages and shortcomings of equilibrium chemical hydrodynamic models of laser induced plasmas will be discussed.

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  • Gornushkin NIR ALBANIA FEB 11 2022.pdf
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Metadaten
Autor*innen:Igor B. GornushkinORCiD
Dokumenttyp:Vortrag
Veröffentlichungsform:Präsentation
Sprache:Englisch
Jahr der Erstveröffentlichung:2022
Organisationseinheit der BAM:1 Analytische Chemie; Referenzmaterialien
1 Analytische Chemie; Referenzmaterialien / 1.3 Instrumentelle Analytik
DDC-Klassifikation:Naturwissenschaften und Mathematik / Chemie / Analytische Chemie
Freie Schlagwörter:Emission spectroscopy; Hydrodynamic model; Laser ablation; Laser induced plasma deposition; Plasma chemistry; Surface coating; Titanium dioxide
Themenfelder/Aktivitätsfelder der BAM:Chemie und Prozesstechnik
Veranstaltung:1st NIP Conference National Institute of Physics (IKF), the Albanian Academy of Sciences
Veranstaltungsort:Online meeting
Beginndatum der Veranstaltung:10.02.2022
Enddatum der Veranstaltung:11.02.2022
Verfügbarkeit des Dokuments:Datei im Netzwerk der BAM verfügbar ("Closed Access")
Datum der Freischaltung:14.02.2022
Referierte Publikation:Nein
Eingeladener Vortrag:Nein
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