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X-ray emission as a potential hazard during ultrashort pulse laser material processing

  • Ultrashort laser pulse micromachining features a high precision. By increasing the repetition rate of the applied laser to several 100 kHz, laser processing becomes quick and cost-effective and make this method attractive for industrial applications. Upon exceeding a critical laser intensity, hard X-ray radiation is generated as a side effect. Even if the emitted X-ray dose per pulse is low, the accumulated X-ray dose becomes significant for high-repetition-rate laser systems so that radiation safety must be considered.

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  • Schwanke-Vortrag_BfS_PUBLICA.pdf
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Autor*innen:Christoph Schwanke
Koautor*innen:Herbert Legall, Simone Pentzien, G. Dittmar, Jörn Bonse, Jörg Krüger
Dokumenttyp:Vortrag
Veröffentlichungsform:Präsentation
Sprache:Englisch
Jahr der Erstveröffentlichung:2018
Organisationseinheit der BAM:6 Materialchemie
6 Materialchemie / 6.2 Material- und Oberflächentechnologien
DDC-Klassifikation:Technik, Medizin, angewandte Wissenschaften / Ingenieurwissenschaften / Ingenieurwissenschaften und zugeordnete Tätigkeiten
Freie Schlagwörter:Femtosecond laser; Laser-induced X-ray emission; Radiation protection; Ultrashort laser material interaction
Themenfelder/Aktivitätsfelder der BAM:Material
Veranstaltung:Informationsveranstaltung der PTB und des BfS zu Fragen der Bauartzulassungen
Veranstaltungsort:Bundesministerium für Umwelt, Naturschutz und nukleare Sicherheit, Berlin, Germany
Beginndatum der Veranstaltung:20.06.2018
Enddatum der Veranstaltung:21.06.2018
Verfügbarkeit des Dokuments:Datei im Netzwerk der BAM verfügbar ("Closed Access")
Datum der Freischaltung:04.07.2018
Referierte Publikation:Nein
Eingeladener Vortrag:Nein
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