Rigorous FEM-Simulation of EUV-Masks: Influence of shape and material parameters
Verfasserangaben: | Jan Pomplun, Sven BurgerORCiD, Frank Schmidt, Lin Zschiedrich, Frank Scholze |
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Herausgeber:in: | P. Martin, R. Naber |
Dokumentart: | Konferenzbeitrag |
Titel des übergeordneten Werkes (Englisch): | Photomask Technology |
Band: | 6349 |
Erste Seite: | 63493D |
Verlag: | Proc. SPIE |
Jahr der Erstveröffentlichung: | 2006 |
DOI: | https://doi.org/10.1117/12.686828 |