Overview Statistic: PDF-Downloads (blue) and Frontdoor-Views (gray)
  • Treffer 10 von 200
Zurück zur Trefferliste

Rigorous FEM-Simulation of EUV-Masks: Influence of shape and material parameters

Metadaten exportieren

Weitere Dienste

Teilen auf Twitter Suche bei Google Scholar Statistik - Anzahl der Zugriffe auf das Dokument
Metadaten
Verfasserangaben:Jan Pomplun, Sven BurgerORCiD, Frank Schmidt, Lin Zschiedrich, Frank Scholze
Herausgeber:in:P. Martin, R. Naber
Dokumentart:Konferenzbeitrag
Titel des übergeordneten Werkes (Englisch):Photomask Technology
Band:6349
Erste Seite:63493D
Verlag:Proc. SPIE
Jahr der Erstveröffentlichung:2006
DOI:https://doi.org/10.1117/12.686828
Accept ✔
Diese Webseite verwendet technisch erforderliche Session-Cookies. Durch die weitere Nutzung der Webseite stimmen Sie diesem zu. Unsere Datenschutzerklärung finden Sie hier.