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Investigation of 3D Patterns on EUV Masks by Means of Scatterometry and Comparison to Numerical Simulations

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Metadaten
Author:Sven BurgerORCiD, Lin Zschiedrich, Jan Pomplun, Frank Schmidt, Akiko Kato, Christian Laubis, Frank Scholze
Document Type:In Proceedings
Parent Title (English):Photomask Technology 2011
Volume:8166
First Page:81661Q
Publisher:Proc. SPIE
Year of first publication:2011
DOI:https://doi.org/10.1117/12.896839
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