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Rigorous simulations of 3D patterns on extreme ultraviolet lithography masks

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Metadaten
Author:Sven BurgerORCiD, Lin Zschiedrich, Jan Pomplun, Frank Schmidt
Editor:Bernd Bodermann
Document Type:In Proceedings
Parent Title (English):Modelling Aspects in Optical Metrology III
Volume:8083
First Page:80831B
Publisher:Proc. SPIE
Year of first publication:2011
DOI:https://doi.org/10.1117/12.889831
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