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Improved quantitative XRF analysis of industrial thin film samples by calibration using thin film RMs certified by reference-free XRF enabling traceability to the SI

  • Reference-free XRF is a SI traceable technique for the determination of the mass deposition (mass per unit area) of elements in films on the nano- and micro scale. The method is radiometrically calibrated instrumentation (PTB@BESSY II, Germany) and based on reliable knowledge of all relevant atomic fundamental, experimental and instrumental parameters. No calibration sample or reference materials are necessary. The approach had been validated in the CCQM-P140 pilot study and the K129 key comparison by determination of mole fractions in Cu(In,Ga)Se2 thin films.

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Autor*innen:Wolfgang UngerORCiD
Koautor*innen:Cornelia Streeck, Burkhard Beckhoff
Dokumenttyp:Vortrag
Veröffentlichungsform:Präsentation
Sprache:Englisch
Jahr der Erstveröffentlichung:2016
DDC-Klassifikation:Naturwissenschaften und Mathematik / Chemie / Analytische Chemie
Freie Schlagwörter:CIGS thin films; Reference-free XRF
Veranstaltung:Annual Meeting of ISO TC 201 SC 10 XRR/XRF
Veranstaltungsort:Seoul, Korea
Beginndatum der Veranstaltung:12.10.2016
Enddatum der Veranstaltung:15.10.2016
Verfügbarkeit des Dokuments:Datei im Netzwerk der BAM verfügbar ("Closed Access")
Datum der Freischaltung:15.11.2016
Referierte Publikation:Nein
Eingeladener Vortrag:Nein
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