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The influence of line edge roughness and CD uniformity on EUV scatterometry for CD characterization of EUV masks

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Verfasserangaben:Frank Scholze, Christian Laubis, Uwe Dersch, Jan Pomplun, Sven BurgerORCiD, Frank Schmidt
Herausgeber:in:Harald Bosse
Dokumentart:Konferenzbeitrag
Titel des übergeordneten Werkes (Englisch):Modeling Aspects in Optical Metrology
Band:6617
Erste Seite:66171A
Verlag:Proc. SPIE
Jahr der Erstveröffentlichung:2007
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