The influence of line edge roughness and CD uniformity on EUV scatterometry for CD characterization of EUV masks
Verfasserangaben: | Frank Scholze, Christian Laubis, Uwe Dersch, Jan Pomplun, Sven BurgerORCiD, Frank Schmidt |
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Herausgeber:in: | Harald Bosse |
Dokumentart: | Konferenzbeitrag |
Titel des übergeordneten Werkes (Englisch): | Modeling Aspects in Optical Metrology |
Band: | 6617 |
Erste Seite: | 66171A |
Verlag: | Proc. SPIE |
Jahr der Erstveröffentlichung: | 2007 |