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Rigorous Simulation of 3D Masks

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Verfasserangaben:Sven BurgerORCiD, Roderick Köhle, Lin Zschiedrich, H. Nguyen, Frank Schmidt, Reinhard März, Christoph Nölscher
Herausgeber:in:P. Martin, R. Naber
Dokumentart:Konferenzbeitrag
Titel des übergeordneten Werkes (Englisch):Photomask Technology
Band:6349
Erste Seite:63494Z
Verlag:Proc. SPIE
Jahr der Erstveröffentlichung:2006
URL:http://arxiv.org/pdf/physics/0610218
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