Rigorous Simulation of 3D Masks
Verfasserangaben: | Sven BurgerORCiD, Roderick Köhle, Lin Zschiedrich, H. Nguyen, Frank Schmidt, Reinhard März, Christoph Nölscher |
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Herausgeber:in: | P. Martin, R. Naber |
Dokumentart: | Konferenzbeitrag |
Titel des übergeordneten Werkes (Englisch): | Photomask Technology |
Band: | 6349 |
Erste Seite: | 63494Z |
Verlag: | Proc. SPIE |
Jahr der Erstveröffentlichung: | 2006 |
URL: | http://arxiv.org/pdf/physics/0610218 |