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Gradient porous silicon nitride prepared via vacuum foaming and freeze drying

  • Gradient porous silicon nitride (Si3N4) was fabricated by a novel vacuum foaming and freeze drying process. Aqueous Si3N4 slurries were foamed at vacuum pressure of 50–90 kPa, the green body was obtained by the freeze drying process, a gradient pore structure with porosities of 72–90% was achieved after pressureless sintering at 1680 °C. The porosity was increased with decreasing vacuum pressure. The pore structure consists of large pores (~100 μm) on top, medium pores (~45 μm) on the wall of the large pores, and small pores (~0.7 μm) in the matrix. Such gradient porous Si3N4 with macro- and micro-pores has potential application as high temperature filters.

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Autoren/innen:Dongxu Yao, Y. Xia, K.-h. Zuo, Y.-P. Zeng, D. Jiang, Jens Günster, J.G. Heinrich
Dokumenttyp:Zeitschriftenartikel
Veröffentlichungsform:Verlagsliteratur
Sprache:Englisch
Titel des übergeordneten Werkes (Englisch):Materials letters
Jahr der Erstveröffentlichung:2015
Organisationseinheit der BAM:5 Werkstofftechnik
5 Werkstofftechnik / 5.4 Keramische Prozesstechnik und Biowerkstoffe
Verlag:Elsevier B.V.
Verlagsort:Amsterdam
Jahrgang/Band:141
Erste Seite:138
Letzte Seite:140
Freie Schlagwörter:Graded; Silicon nitride
DOI:https://doi.org/10.1016/j.matlet.2014.11.067
URL:http://gateway.webofknowledge.com/gateway/Gateway.cgi?GWVersion=2&SrcAuth=Alerting&SrcApp=Alerting&DestApp=WOS&DestLinkType=FullRecord;UT=WOS:000348263300036
ISSN:0167-577x
ISSN:1873-4979
Verfügbarkeit des Dokuments:Datei im Netzwerk der BAM verfügbar ("Closed Access")
Datum der Freischaltung:20.02.2016
Referierte Publikation:Ja
Datum der Eintragung als referierte Publikation:21.12.2015