Dynamic plowing nanolithography on polymethylmethacrylate using an atomic force microscope
- We present dynamic plowing nanolithography on polymethylmethacrylate films, performed with a scan-linearized atomic force microscope able to scan up to 250 μm with high resolution. Modifications of the surface are obtained by plastically indenting the film surface with a vibrating tip. By changing the oscillation amplitude of the cantilever, i.e., the indentation depth, surfaces can be either imaged or modified. A program devoted to the control of the scanning process is also presented. The software basically converts the gray scale of pixel images into voltages used to control the dither piezo driving cantilever oscillations. The advantages of our experimental setup and the dependence of lithography efficiency on scanning parameters are discussed. Some insights into the process of surface modifications are presented.
Autor*innen: | Brunero CappellaORCiD, Markus Geuss, Heinz SturmORCiD, M. Heyde, K. Rademann, T. Spangenberg, H. Niehus |
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Dokumenttyp: | Zeitschriftenartikel |
Veröffentlichungsform: | Verlagsliteratur |
Sprache: | Englisch |
Titel des übergeordneten Werkes (Englisch): | Review of scientific instruments |
Jahr der Erstveröffentlichung: | 2001 |
Verlag: | American Institute of Physics |
Verlagsort: | Melville, NY |
Jahrgang/Band: | 72 |
Erste Seite: | 136 |
Letzte Seite: | 141 |
Freie Schlagwörter: | Nanolithography |
DOI: | 10.1063/1.1326053 |
URL: | http://rsi.aip.org/ |
ISSN: | 0034-6748 |
ISSN: | 1089-7623 |
Verfügbarkeit des Dokuments: | Datei im Netzwerk der BAM verfügbar ("Closed Access") |
Datum der Freischaltung: | 19.02.2016 |
Referierte Publikation: | Ja |
Datum der Eintragung als referierte Publikation: | 09.08.2000 |