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Dual beam organic depth profiling using large argon cluster ion beams

  • Argon cluster sputtering of an organic multilayer reference material consisting of two organic components, 4,4'-bis[N-(1-naphthyl-1-)-N-phenyl- amino]-biphenyl (NPB) and aluminium tris-(8-hydroxyquinolate) (Alq3), materials commonly used in organic light-emitting diodes industry, was carried out using time-of-flight SIMS in dual beam mode. The sample used in this study consists of a ~400-nm-thick NPB matrix with 3-nm marker layers of Alq3 at depth of ~50, 100, 200 and 300 nm. Argon cluster sputtering provides a constant sputter yield throughout the depth profiles, and the sputter yield volumes and depth resolution are presented for Ar-cluster sizes of 630, 820, 1000, 1250 and 1660 atoms at a kinetic energy of 2.5 keV. The effect of cluster size in this material and over this range is shown to be negligible.

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  • Holzweber_et_al-2014-Surface_and_Interface_Analysis.pdf
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Metadaten
Autoren/innen:Markus Holzweber, A.G. Shard, H. Jungnickel, A. Luch, Wolfgang Unger
Dokumenttyp:Zeitschriftenartikel
Veröffentlichungsform:Verlagsliteratur
Sprache:Englisch
Titel des übergeordneten Werkes (Englisch):Surface and interface analysis
Jahr der Erstveröffentlichung:2014
Organisationseinheit der BAM:6 Materialschutz und Oberflächentechnik
6 Materialschutz und Oberflächentechnik / 6.1 Oberflächenanalytik und Grenzflächenchemie
Verlag:Wiley
Verlagsort:Chichester
Jahrgang/Band:46
Erste Seite:936
Letzte Seite:939
Freie Schlagwörter:Ar-GCIB; Argon cluster; Organic depth profiling; SIMS; Secondary Ion Mass Spectrometry; ToF-SIMS
DOI:https://doi.org/10.1002/sia.5429
ISSN:0142-2421
ISSN:1096-9918
Verfügbarkeit des Volltexts:Volltext-PDF im Netzwerk der BAM verfügbar ("Closed Access")
Datum der Freischaltung:20.02.2016
Referierte Publikation:Ja
Datum der Eintragung als referierte Publikation:18.02.2015