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In vielen Umgebungen, besonders bei hohen Temperaturen, korrosiven Umgebungen oder auf bewegten oder schlecht zugänglichen Flächen, kann die Temperatur nicht oder nur mit nicht akzeptablem Aufwand mit Berührungsthermometern gemessen werden. Diese Umgebungsbedingungen sind unter anderem in der chemischen Industrie, der Lebensmittel-, Metall-, Glas-, Kunststoff- und Papierherstellung sowie bei der Lacktrocknung anzutreffen. In diesen Bereichen kommen Strahlungsthermometer zum Einsatz. Der VDI-Statusreport zeigt typische Anwendungsfelder von nicht radiometrisch kalibrierten Wärmebildkameras und von radiometrisch kalibrierten Thermografiekameras. Um verlässlich mit spezifizierten Messunsicherheiten berührungslos Temperaturen zu messen, müssen die Strahlungsthermometer und Thermografiekameras nicht nur kalibriert, sondern radiometrisch und strahlungsthermometrisch umfassend charakterisiert werden. Auch die optische Materialeigenschaft, der spektrale Emissionsgrad und die Gesamtstrahlungsbilanz (Strahlung des Messobjekts und der Umgebung) sind bei der industriellen Temperaturmessung von großer Bedeutung. In den letzten Jahrzehnten ist dazu ein umfassendes technisches Regelwerk entstanden, das wir Ihnen mit diesem VDI-Statusreport vorstellen. Manche in den Richtlinien beschriebenen Kennwerte mögen abstrakt wirken. In diesem Statusreport zeigen wir an konkreten Beispielen, was diese Kenngrößen für die berührungslose Temperaturmessung bedeuten. Beispiele von Anwendungen zeigen, wo temperaturmessende Thermografiekameras und ausschließlich bildgebende Wärmebildkameras in der Praxis eingesetzt werden. Mit einer Analyse, welche Themen und Anwendungen derzeit besonders intensiv diskutiert werden, versuchen wir Trends für zukünftige Entwicklungen herauszuarbeiten.
Mycotoxins are among the most abundant contaminants in food and feed worldwide. Therefore, in the EU maximum levels are established, e.g. for the frequently occurring Fusarium toxins deoxynivalenol (DON) and zearalenone (ZEA). Additional to DON and ZEA, modified mycotoxins are present in naturally contaminated grain products contributing significantly to the exposure of humans and animals with mycotoxins. Up to now data on the spatial distribution of many (masked) mycotoxins in the kernels of wheat are missing. The aim of the present study was to investigate the amounts of DON and ZEA as well as their most abundant derivatives DON-3-glucoside (DON-3G), 3- and 15-acetyl-DON, ZEA-14- and 16-glucoside and ZEA-14-sulphate (ZEA-14S) in mill fractions of naturally contaminated wheat batches using HPLC-MS/MS. The investigated distribution pattern in ten milling fractions is comparable among the three investigated different wheat batches. Interestingly, DON and DON-3G were found to be present to similar amounts in all fractions. In bran, the levels were only slightly higher than in the endosperm. By contrast, for ZEA and ZEA-14S a significantly higher amount of toxin is located in the fibre-rich fractions. The relative mass proportion of DON-3G comprises for only between 2.9 and 11.2% of the free DON, while the relative mass proportion of ZEA-14S is estimated to even exceed the amount of free ZEA in certain fractions. Acetylated DON derivatives and ZEA-glucosides were only detected in low amounts. The experimental results show that a significant reduction of the ZEA and ZEA-14S level in wheat flour is feasible by applying milling technology strategies. However, the almost evenly distribution of DON and DON-3G in all fractions does not allow for the technological removal of relevant toxin amounts. Furthermore, the relative share of masked forms was higher for ZEA derivatives than for the DON conjugates in the investigated wheat lots.