Taloring Electrical Properties of Modified SiO2 Films

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Metadaten
Autor*innen:Thomas Hübert
Koautor*innen:Aki Shimamura, Andreas Klyszcz
Dokumenttyp:Posterpräsentation
Veröffentlichungsform:Präsentation
Sprache:Englisch
Titel des übergeordneten Werkes (Englisch):XII International Workshop on Sol-Gel-Science and Technology
Jahr der Erstveröffentlichung:2003
Veranstaltung:XII International Workshop on Sol-Gel-Science and Technology
Veranstaltungsort:Sydney, Australia
Beginndatum der Veranstaltung:2003-08-24
Enddatum der Veranstaltung:2003-08-29
Verfügbarkeit des Dokuments:Weder Datei noch physisches Exemplar vorhanden ("No Access")
Datum der Freischaltung:19.02.2016
Referierte Publikation:Nein
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