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Laubis, Christian (2)
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Erscheinungsjahr
2007 (2)
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Englisch
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The influence of line edge roughness and CD uniformity on EUV scatterometry for CD characterization of EUV masks
(2007)
Scholze, Frank
;
Laubis, Christian
;
Dersch, Uwe
;
Pomplun, Jan
;
Burger, Sven
;
Schmidt, Frank
Finite element analysis of EUV lithography
(2007)
Pomplun, Jan
;
Burger, Sven
;
Schmidt, Frank
;
Scholze, Frank
;
Laubis, Christian
;
Dersch, Uwe
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