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Scatterometry reference standards to improve tool matching and traceability in lithographical nanomanufacturing (2015)

Agcos, Emil ; Bodermann, Bernd ; Burger, Sven ; Dai, Gaoliang ; Endres, Johannes ; Hansen, Poul-Erik ; Nielson, Lars ; Madsen, Morten ; Heidenreich, Sebastian ; Krumrey, Michael ; Loechel, Bernd ; Probst, Jürgen ; Scholze, Frank ; Soltwisch, Victor ; Wurm, Matthias

Efficient Bayesian inversion for shape reconstruction of lithography masks (2020)

Farchmin, Nando ; Hammerschmidt, Martin ; Schneider, Philipp-Immanuel ; Wurm, Matthias ; Bodermann, Bernd ; Bär, Markus ; Heidenreich, Sebastian

Efficient global sensitivity analysis for silicon line gratings using polynomial chaos (2019)

Farchmin, Nando ; Hammerschmidt, Martin ; Schneider, Philipp-Immanuel ; Wurm, Matthias ; Bär, Markus ; Heidenreich, Sebastian

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