Metrology of EUV masks by EUV-scatterometry and finite element analysis
Verfasserangaben: | Jan Pomplun, Sven BurgerORCiD, Frank Schmidt, Frank Scholze, Christian Laubis, Uwe Dersch |
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Herausgeber:in: | Toshiyuki Horiuchi |
Dokumentart: | Konferenzbeitrag |
Titel des übergeordneten Werkes (Englisch): | Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XV |
Band: | 7028 |
Verlag: | SPIE |
Jahr der Erstveröffentlichung: | 2008 |