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Metrology of EUV masks by EUV-scatterometry and finite element analysis

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Verfasserangaben:Jan Pomplun, Sven BurgerORCiD, Frank Schmidt, Frank Scholze, Christian Laubis, Uwe Dersch
Herausgeber:in:Toshiyuki Horiuchi
Dokumentart:Konferenzbeitrag
Titel des übergeordneten Werkes (Englisch):Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XV
Band:7028
Verlag:SPIE
Jahr der Erstveröffentlichung:2008
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