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Reduced basis method for computational lithography

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Verfasserangaben:Jan Pomplun, Lin Zschiedrich, Sven BurgerORCiD, Frank Schmidt
Dokumentart:Konferenzbeitrag
Titel des übergeordneten Werkes (Englisch):Photomask Technology
Band:7488
Erste Seite:74882B
Verlag:Proc. SPIE
Jahr der Erstveröffentlichung:2009
DOI:https://doi.org/10.1117/12.829639
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