Reduced basis method for computational lithography
Verfasserangaben: | Jan Pomplun, Lin Zschiedrich, Sven BurgerORCiD, Frank Schmidt |
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Dokumentart: | Konferenzbeitrag |
Titel des übergeordneten Werkes (Englisch): | Photomask Technology |
Band: | 7488 |
Erste Seite: | 74882B |
Verlag: | Proc. SPIE |
Jahr der Erstveröffentlichung: | 2009 |
DOI: | https://doi.org/10.1117/12.829639 |