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Evaluation of EUV scatterometry for CD characterization of EUV masks using rigorous FEM-simulation

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Metadaten
Author:Frank Scholze, Christian Laubis, Gerhard Ulm, Uwe Dersch, Jan Pomplun, Sven BurgerORCiD, Frank Schmidt
Editor:Frank Schellenberg
Document Type:In Proceedings
Parent Title (English):Emerging Lithographic Technologies XII
Volume:6921
Publisher:SPIE
Year of first publication:2008
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