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Rigorous Simulation of 3D Masks

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Metadaten
Author:Sven BurgerORCiD, Roderick Köhle, Lin Zschiedrich, H. Nguyen, Frank Schmidt, Reinhard März, Christoph Nölscher
Editor:P. Martin, R. Naber
Document Type:In Proceedings
Parent Title (English):Photomask Technology
Volume:6349
First Page:63494Z
Publisher:Proc. SPIE
Year of first publication:2006
URL:http://arxiv.org/pdf/physics/0610218
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