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Finite element analysis of EUV lithography

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Verfasserangaben:Jan Pomplun, Sven BurgerORCiD, Frank Schmidt, Frank Scholze, Christian Laubis, Uwe Dersch
Herausgeber:in:Harald Bosse
Dokumentart:Konferenzbeitrag
Titel des übergeordneten Werkes (Englisch):Modeling Aspects in Optical Metrology
Band:6617
Erste Seite:661718
Verlag:Proc. SPIE
Jahr der Erstveröffentlichung:2007
DOI:https://doi.org/10.1117/12.726156
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