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Benchmark of FEM, Waveguide and FDTD Algorithms for Rigorous Mask Simulation

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Metadaten
Author:Sven BurgerORCiD, Roderick Köhle, Lin Zschiedrich, W. Gao, Frank Schmidt, Reinhard März, Christoph Nölscher
Editor:J. Weed, P. Martin
Document Type:In Proceedings
Parent Title (English):Photomask Technology
Volume:5992
First Page:378
Last Page:389
Publisher:Proc. SPIE
Year of first publication:2005
ArXiv Id:http://arxiv.org/abs/physics/0601143
DOI:https://doi.org/10.1117/12.631696
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