TY - GEN A1 - Beyer, Harald A1 - Harendt, Andreas A1 - Koschlig, Tobias A1 - Rolle, Siegfried A1 - Roß, Werner A1 - Volkmann, Hans T1 - Das Institut für Plasma- und Lasertechnik der Technischen Fachhochschule Wildau T2 - Wissenschaftliche Beiträge 2/1998 N2 - Am 31.12.1996 endete das Wissenschaftler-Integrations-Programm (WIP) in den neuen Ländern. Es war angelegt worden, um Teilen der in der Akademie der Wissenschaften der DDR arbeitenden (und mehrfach positiv evaluierten) Wissenschaftlern eine Übergangsphase zu finanzieren, in der sie einerseits ihre Arbeit kontinuierlich fortsetzen konnten und andererseits die Integration in einer Hochschule erfolgen sollte, da die Forschungslandschaft der DDR an die bundesdeutschen Strukturen anzupassen waren. Das vorab auf zwei Jahre angelegte, 1992 gestartete Programm konnte bis 1996 verlängert werden, wenn es gelang, eine Hochschule zu finden, die bekundete, an einer Integration dieser Wissenschaftler in ihrer Einrichtung interessiert zu sein. Zielhochschule der Wissenschaftler in der von Prof. Dr. sc. H. Gündel gegründeten Gruppe, die sich in Fortführung ihrer langjährigen Forschungstätigkeit auf dem Gebiet der nichtthermischen Plasmen (auch Niedertemperaturplasmen), insbesondere zur Erzeugung von Laserlicht beschäftigte und auch noch beschäftigt, war die TFH Wildau. Dies war für eine Berliner Einrichtung einerseits ungewöhnlich, andererseits auch nahe: In der Gründungsphase der TFH Wildau lag ein besonderes Schwergewicht auf den modernen Technologien, was sich auch dadurch ausdrückte, daß es einen Fachbereich Physikalische Technik gab, der heute im Fachbereich Ingenieur- und Wirtschaftsingenieurwesen als Studienrichtung weiter besteht. Da sich für die Zukunft eine immer breitere, auch ingenieurmäßige Anwendung der Plasma- und Lasertechnik abzeichnet und an den Deutschen Fachhochschulen dieses Gebiet (insbesondere die Plasmatechnik) kaum in der Lehre vertreten wird, wurde von beiden Seiten - der TFH Wildau auf der einen und der sich damals noch als WIP AG Niedertemperaturplasmen bezeichnenden Gruppe aus Berlin auf der anderen - eine Integration in einem Institut für Plasma- und Lasertechnik (IPLT) der TFH Wildau im Fachbereich Physikalische Technik angestrebt. Y1 - 1998 U6 - http://nbn-resolving.de/urn/resolver.pl?urn:nbn:de:kobv:526-opus4-7488 SN - 0949-8214 VL - 4 IS - 2 SP - 16 EP - 23 ER - TY - GEN A1 - Francke, Klaus-Peter A1 - Rohrbeck, Wolfgang A1 - Rudolph, Rolf A1 - Volkmann, Hans T1 - 1 kW Pulse Corona Reactor for Voc Destruction T2 - Wissenschaftliche Beiträge 2/1998 N2 - A I kW pulse corona reactor has been developed capable of treating gas flows up to 100 m3/h. The discharge efficiency reaches 80 % in air and nearly 100 % in nitrogen flows. The efficiency of radical production has been proofed by ozone synthesis as weil as by NO to N2 conversion. Y1 - 1998 U6 - http://nbn-resolving.de/urn/resolver.pl?urn:nbn:de:kobv:526-opus4-7546 SN - 0949-8214 VL - 4 IS - 2 SP - 48 EP - 50 ER - TY - GEN A1 - Beyer, Harald A1 - Harendt, Andreas A1 - Rolle, Siegfried A1 - Ross, Werner A1 - Volkmann, Hans T1 - TE-CO2-Laser mit variabler Impulsdauer T2 - Wissenschaftliche Beiträge 2/2000 N2 - Laserbearbeitungsverfahren wie Präzisionschneiden und Bohren erfordern den Einsatz von Laserimpulsen mit angepasster Impulsleistung (10 kW) und Impulsdauer (10 μs bis zu einigen 100 μs). Transversal elektrisch (TE) angeregte Impuls-CO2 -Laser werden bei Gasdrücken bis zu einigen 100 kPa betrieben. In diesem Bereich begrenzen jedoch einsetzende Plasmainstabilitäten die mögliche elektrische Anregungsdauer für ein homogenes nichtthermisches Entladungsplasma auf einige 100 ns [1]. Eine Verlängerung der Laserimpulsdauer ist durch Veränderung der Energietransportzeit im Lasermedium möglich. In [2,3] wurde dies durch eine Herabsetzung des CO2 -Anteils im Gasgemisch sowie durch Herabsetzung des Gasdrucks erreicht. Mit der zusätzlichen Verminderung des Heliumanteils [4] kann die Laserimpulsdauer bis zu 1000 μs ausgedehnt werden. Y1 - 2000 U6 - http://nbn-resolving.de/urn/resolver.pl?urn:nbn:de:kobv:526-opus4-7006 SN - 0949-8214 VL - 5 IS - 2 SP - 13 EP - 16 ER - TY - GEN A1 - Gündel, Harald A1 - Volkmann, Hans T1 - Eximerlaser mit gauß-förmigem Strahlprofil T2 - Wissenschaftliche Beiträge 1/1996 N2 - Wegen ihrer Wellenlänge im ultravioletten Spektralgebiet gehören Eximerlaser (z. B. KrF, ArF, XeCI) zu den am vielseitigsten eingesetzten Lasern in der Forschung und zunehmend auch in der industriellen Anwendung. Alle am Markt erhältlichen Excimer-Laser weisen jedoch einen wesentlichen Nachteil auf, der ihre Einsatzmöglichkeiten begrenzt. Bedingt durch konstruktive Besonderheiten ist ihre Strahlqualität unbefriedigend. Sie weisen einen rechteckförmigen Strahlquerschnitt auf mit einem komplizierten Gemisch verschiedener transversaler Moden (Multimodenstruktur). Diese Eigenschaft wirkt sich negativ auf die Fokussierbarkeit der Strahlung aus, wodurch der positive Einfluß der kurzen Wellenlängen z.T. wieder zunichte gemacht wird. Besonders störend ist dieser Effekt z. B. beim Bohren feinster Löcher oder beim Einkoppeln der Strahlung in Lichtleiter. Das Ziel der Arbeiten besteht daher darin, einen Eximerlaser zu entwickeln, der die Vorteile der kurzen Wellenlänge mit einer guten Strahlqualität verbindet. Anzustreben ist ein kreisrunder Strahlquerschnitt mit nur einer Strahlungsmode und Gauß-Profil. Dabei sollen die Erfahrungen genutzt werden, die im Institut für Plasma- und Lasertechnik der TFH Wildau bei der Entwicklung von Stickstofflasern mit gauß-ähnlichem Strahlprofil gewonnen wurden. Ein solches Gerät würde die Einsatzgebiete von Eximer-Lasern erweitern und hätte voraussichtlich gute Marktchancen. Y1 - 1996 U6 - http://nbn-resolving.de/urn/resolver.pl?urn:nbn:de:kobv:526-opus4-8245 SN - 0949-8214 VL - 2 IS - 1 SP - 68 EP - 71 ER - TY - GEN A1 - Beyer, Harald A1 - Harendt, Andreas A1 - Huget, Karin A1 - Koschlig, Tobias A1 - Rolle, Siegfried A1 - Ross, Werner A1 - Volkmann, Hans T1 - Das Institut für Plasma- und Lasertechnik an der TFH Wildau - Entwicklung und Kooperation mit anderen Einrichtungen T2 - Wissenschaftliche Beiträge 2001 N2 - Die Plasmatechnik gehört mittlerweile zu den Schlüsseltechnologien des nachhaltigen Wachstums und der Bewältigung des Strukturwandels der deutschen Wirtschaft. Plasmaverfahren sind zur Voraussetzung für die Herstellung von Chips für Hochleistungscomputer geworden. Mit Plasmatechnologien werden Werkstoffoberflächen veredelt und Materialien mit neuen Eigenschaften erzeugt. Es gibt Plasmalampen, die ohne Verwendung von Quecksilber hohe Lichtausbeuten und gute Farbwiedergabe erreichen. Auch bei der Entsorgung toxischer Stoffe und von Abfällen kommen Plasmatechnologien zum Einsatz. Das Bundesministerium für Bildung und Forschung (BMBF) hat in einer Broschüre die Anwendung und Forschung auf dem Gebiet der Plasmatechnik in Deutschland zusammengestellt. In Deutschland wird jährlich eine Industrieproduktion von 45 Mio. € durch die Plasmatechnologie erst ermöglicht. Vor diesem Hintergrund soll die Entwicklung der Forschung und Ausbildung auf dem Gebiet der Plasmatechnik an der TFH Wildau beschrieben werden. Y1 - 2001 U6 - http://nbn-resolving.de/urn/resolver.pl?urn:nbn:de:kobv:526-opus4-8518 SN - 0949-8214 VL - 6 SP - 38 EP - 41 ER -