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Influence of reactive ion etching parameters on the geometry of silicon tip cathodes for field emission

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Metadaten
Author:Robert Damian ŁawrowskiORCiD, Christian PrommesbergerORCiD, Christoph LangerORCiD, Florian Dams, Rupert SchreinerORCiDGND
ISBN:978-3-8440-2274-2
Parent Title (English):Applied Research Conference 2013, ARC 2013 : 17th and 18th October 2013, Deggendorf
Publisher:Shaker
Place of publication:Aachen
Document Type:conference proceeding (article)
Language:English
Year of first Publication:2013
Contributing Corporation:Organizer: Hochschule Amberg-Weiden
Release Date:2022/12/10
First Page:67
Last Page:69
Andere Schriftenreihe:Konferenz im Forschungsmaster - Master of Applied Research, MAPRby
Institutes:Fakultät Angewandte Natur- und Kulturwissenschaften
Fakultät Angewandte Natur- und Kulturwissenschaften / Labor Mikrosensorik
research focus:Produktion und Systeme
Licence (German):Keine Lizenz - Es gilt das deutsche Urheberrecht: § 53 UrhG