Influence of reactive ion etching parameters on the geometry of silicon tip cathodes for field emission
Author: | Robert Damian ŁawrowskiORCiD, Christian PrommesbergerORCiD, Christoph LangerORCiD, Florian Dams, Rupert SchreinerORCiDGND |
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ISBN: | 978-3-8440-2274-2 |
Parent Title (English): | Applied Research Conference 2013, ARC 2013 : 17th and 18th October 2013, Deggendorf |
Publisher: | Shaker |
Place of publication: | Aachen |
Document Type: | conference proceeding (article) |
Language: | English |
Year of first Publication: | 2013 |
Contributing Corporation: | Organizer: Hochschule Amberg-Weiden |
Release Date: | 2022/12/10 |
First Page: | 67 |
Last Page: | 69 |
Andere Schriftenreihe: | Konferenz im Forschungsmaster - Master of Applied Research, MAPRby |
Institutes: | Fakultät Angewandte Natur- und Kulturwissenschaften |
Fakultät Angewandte Natur- und Kulturwissenschaften / Labor Mikrosensorik | |
research focus: | Produktion und Systeme |
Licence (German): | Keine Lizenz - Es gilt das deutsche Urheberrecht: § 53 UrhG |