Plasmaphysik III : von den kapazitiv gekoppelten Plasmen bis zur Plasmadiagnostik
- Inhalt: Kapazitiv gekoppelte Plasmen; Streuprozesse; Hoch-Dichte-Plasmen; CCP-Entladungen vs. ICP-Entladungen; Magnetfeldunterstützte Einkopplung; Ionenstrahlsysteme; Trockenätzverfahren I-V; Plasma-Analytik
Author: | Gerhard Franz |
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URN: | urn:nbn:de:bvb:m347-dtl-0000000038 |
ISBN: | 978-3-943872-03-3 |
Publisher: | Hochschule München |
Place of publication: | München |
Document Type: | Book |
Language: | German |
Date of Publication (online): | 2022/01/31 |
Date of first Publication: | 2012/06/30 |
Publishing Institution: | Hochschule für angewandte Wissenschaften München |
Release Date: | 2022/02/07 |
GND Keyword: | PlasmaphysikGND |
Page Number: | I, 117 |
Departments and Institutes: | Fakultäten der Hochschule München / FK 06 Fakultät für angewandte Naturwissenschaften und Mechatronik |
Dewey Decimal Classification: | 5 Naturwissenschaften und Mathematik / 53 Physik |
Illustrations: | Illustration/en |
Illustrations: | grafische Darstellung/en |
Licence (German): |