TY - JOUR A1 - Bittner, Boris A1 - Walter, H. A1 - Rösch, M. T1 - Projection exposure apparatus with optimized adjustment possibility Y1 - 2010 ER - TY - JOUR A1 - Bittner, Boris A1 - Wabra, N. A1 - von Hodenberg, M. A1 - Schneider, S. A1 - Schneider, R. A1 - Mack, R. T1 - System correction from long timescales Y1 - 2014 ER - TY - JOUR A1 - Bittner, Boris A1 - Zellner, J. A1 - Wabra, N. A1 - von Hodenberg, M. A1 - Schneider, S. A1 - Schneider, R. A1 - Schob, A. A1 - Rudolph, G. A1 - Gratzke, A. A1 - Moffat, A. T1 - Projection objective of a mcrolithographic projection exposure apparatus Y1 - 2013 ER - TY - JOUR A1 - Bittner, Boris A1 - Wabra, N. A1 - Schneider, S. A1 - Schneider, R. A1 - Wagner, H. A1 - Wald, C. A1 - Iliew, R. A1 - Schicketanz, T. A1 - Gruner, T. T1 - Projektionsobjektiv für EUV-Mikrolithographie BT - Folienelement und Verfahren zur Herstellung eines Projektionsobjektivs mit Folienelement Y1 - 2013 ER - TY - JOUR A1 - Bittner, Boris A1 - Weiß, M. A1 - Kerwien, N. A1 - Weiser, M. A1 - Wabra, N. A1 - Schlichenmaier, Chr. A1 - Clauss, W. T1 - Reflective optical element for the EUV wavelength range, method for producing and correcting such an element, projection lens for microlithography comprising such an element, and projection exposure apparatus for microlithography comprising such a projection lens Y1 - 2013 ER - TY - JOUR A1 - Bittner, Boris A1 - Wabra, N. A1 - Schneider, S. A1 - Schneider, R. T1 - Method of operating a microlithographic projection apparatus Y1 - 2015 ER - TY - JOUR A1 - Bittner, Boris T1 - Projection exposure apparatus with optimized adjustment capability Y1 - 2012 ER -