@phdthesis{CatalanAsenjo2008, author = {Catalan Asenjo, Helena}, title = {Entwicklung eines Cr6+-freien Titanaktivierungsverfahrens zur elektrochemischen Beschichtung}, url = {http://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:kobv:co1-opus-4295}, school = {BTU Cottbus - Senftenberg}, year = {2008}, abstract = {In der vorliegenden Arbeit wird {\"u}ber die Entwicklung und Optimierung eines neuen, Cr6+-freien Titanaktivierungsverfahrens f{\"u}r die Vorbehandlung von Titanbauteilen bei der elektrochemischen Beschichtung berichtet. Dabei werden die in den einzelnen Schritten des Verfahrens auftretenden chemischen und elektrochemischen Reaktionen sowie ihre Auswirkungen auf die Struktur und chemische Zusammensetzung der Metalloberfl{\"a}che analysiert. Abschließend werden die einzelnen Schritte durch Korrelationen zwischen den erreichten Oberfl{\"a}chenzust{\"a}nden und den Haftfestigkeiten der Beschichtung optimiert. Das entwickelte Cr6+-freie Titanaktivierungsverfahren besteht aus drei chemischen Behandlungsschritten. Beim ersten Schritt, dem Vor{\"a}tzen, wird die Metalloberfl{\"a}che so ge{\"a}tzt, dass eine gleichm{\"a}ßige Mikrostruktur mit einer bestimmten Rauigkeit erzeugt wird. Dies verbessert, durch die Erm{\"o}glichung eines optimalen Ablaufes der nachfolgenden Schritte, die Haftfestigkeit der Beschichtung. Im n{\"a}chsten Schritt, dem Aktivbeizen, wird eine große Oberfl{\"a}chenrauigkeit erzeugt. Dies erfolgt durch den parallelen Verlauf des Metallabtrages und der Bildung einer Kristallschicht auf der Metalloberfl{\"a}che. Eine große Rauigkeit f{\"u}hrt, dank einer mechanischen Verankerung, zu einer hohen Haftfestigkeit der Beschichtung. Im letzten Schritt des Aktivierungsverfahrens, der Aktivierung, wird die Kristallschicht in einer S{\"a}ure aufgel{\"o}st. Die Haftfestigkeit der Beschichtung wird verbessert, wenn dabei der Aktivierungszustand der Metalloberfl{\"a}che aufrechterhalten wird.}, subject = {Titan; Metallischer Werkstoff; Beschichtung; Titan; Aktivierung; Elektrochemische Beschichtung; Galvaniesieren; Titanium; Activation; Plating}, language = {de} }