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Prüfverfahren zur Bestimmung der Radon-Exhalationsrate aus Bauprodukten in VOC-Emissionskammern
(2017)
Es wurden die wesentlichen Ergebnisse des abgeschlossenen UFOPLAN-Vorschungsvorhabens "Methodische Untersuchungen zur Qualifizierung der VOC-Kammern zur Bestimmung der Radonexhalationsrate von Bauprodukten, Los 1" vorgestellt.
Das entwickelte Prüfverfahren eignet sich zur Bestimmung der Radonexhalationsrate von Bauprodukten mittels kommerziell erhältlicher Radon-Messtechnik in dynamisch betriebenen VOC-Emissionsprüfkammern. Es ist robust gegenüber einem weiten Bereich von Parametereinstellungen hinsichtlich der Prüfparameter Prüfkammervolumen, Produktbeladung, Luftwechselrate und flächenspezifische Luftdurchflussrate. Entscheidend für die Messung im Bereich geringer Radonaktivitätskonzentration ist es, die Zuluftkonzentration (Blindwert) der Emissionsprüfkammern auf einem konstant geringen Niveau zu halten oder durch eine – zur eigentlichen Baustoffmessung – parallele Messung der Zuluft zu kompensieren. Die gängige Aufbereitung der Zuluft der VOC-Prüfkammern mittels mehrfacher Filtration und Sorption über Silica-Gel- sowie verhältnismäßig kleinvolumigen Aktivkohle-Filtern ist bezüglich Radon unwirksam.
Compared to the intended EU reference level of 300 Bq m−3 for indoor radon concentrations, the contribution of building materials appears to be low. Considering the recommended limit of 100 Bq m−3 by WHO, their contribution is supposed to be relevant, especially at low air exchange rates. This study as part of a two-part research project investigated the suitability of direct low level 222Rn measurement under simulated indoor conditions with commercial radon monitors and dynamically operated emission test chambers. Active measuring devices based on ionisation or scintillation chambers with 1-σ uncertainties below 8.6% at 20 Bq m−3 were found to be best suitable for a practical test procedure for the determination of radon exhalation rates of building materials. For the measurement of such low concentrations, the knowledge of the accurate device background level is essential.