Study of magnetron sputtering deposited ultrathin FeSnOx films for Surface Plasmon Resonance sensors towards gas sensing applications

  • In this study, series of coatings with the goal of sensitising gold SPR sensors towards CO, NH4, etc. were prepared. To better understand the mechanism behind the sensitizing effect and to enable the targeted production of optimized layers, the wide range of coatings was studied by multiple methods from spectroscopic ellipsometry for their dielectric function, by XPS for chemical composition and SEM, TEM to determine their microscopic structure. The coatings were deposited at inert Ar gas and reactive Ar/O2 gas mixture by RF magnetron sputtering or DC pulsed magnetron sputtering with settable RF bias on the substrates. The plasma processes were monitors by mass spectrometry. The metal oxide coatings in SPR sensors have to be prepared reproducible with thickness about 5 nm therefore lower deposition rate conditions were advantages.

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Autor*innen:M. Kormunda
Koautor*innen:Andreas Hertwig, Uwe Beck, Daniel Fischer
Dokumenttyp:Vortrag
Veröffentlichungsform:Präsentation
Sprache:Englisch
Jahr der Erstveröffentlichung:2017
DDC-Klassifikation:Naturwissenschaften und Mathematik / Chemie / Analytische Chemie
Technik, Medizin, angewandte Wissenschaften / Ingenieurwissenschaften / Ingenieurwissenschaften und zugeordnete Tätigkeiten
Freie Schlagwörter:FeSnOx; Magnetron sputtering; Surface Plasmon Resonance
Veranstaltung:THE 14th INTERNATIONAL SYMPOSIUM ON SPUTTERING & PLASMA PROCESSES,ISSP 2017
Veranstaltungsort:Kanazawa, Japan
Beginndatum der Veranstaltung:05.07.2017
Enddatum der Veranstaltung:07.07.2017
Verfügbarkeit des Dokuments:Datei im Netzwerk der BAM verfügbar ("Closed Access")
Datum der Freischaltung:22.12.2017
Referierte Publikation:Nein
Eingeladener Vortrag:Nein
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