Pressure influence on the depth resolution of rf-glow discharge depth profiling of multilayer coatings

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Autor*innen:Vasile-Dan HodoroabaORCiD, Thomas Wirth
Dokumenttyp:Zeitschriftenartikel
Veröffentlichungsform:Verlagsliteratur
Sprache:Englisch
Titel des übergeordneten Werkes (Englisch):Journal of analytical atomic spectrometry
Jahr der Erstveröffentlichung:1999
Verlag:Royal Society of Chemistry
Verlagsort:London
Jahrgang/Band:14
Erste Seite:1533
Letzte Seite:1535
Freie Schlagwörter:rf system
ISSN:0267-9477
ISSN:1364-5544
Verfügbarkeit des Dokuments:Weder Datei noch physisches Exemplar vorhanden ("No Access")
Datum der Freischaltung:19.02.2016
Referierte Publikation:Ja
Datum der Eintragung als referierte Publikation:26.07.2000
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