Femto- and nanosecond laser treatment of doped polymethylmethacrylate

  • Femto- and nanosecond laser ablation of polymethylmethacrylate (PMMA) and PMMA doped with a linear absorber was investigated in the infrared spectral region. Ablation thresholds were determined and incubation phenomena were identified. The ‘degree’ of incubation was calculated employing a phenomenological model. The influence of the pulse duration on the machining quality of the polymers was examined. The presence of an absorbing chromophore is not a prerequisite for a controllable fs-laser structuring in contrast to the ns-treatment. Surface swelling always accompanied ablation.

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Autor*innen:Jörg KrügerORCiD, Sven Martin, Heinrich Mädebach, L. Urech, T. Lippert, A. Wokaun, Wolfgang Kautek
Dokumenttyp:Zeitschriftenartikel
Veröffentlichungsform:Verlagsliteratur
Sprache:Englisch
Titel des übergeordneten Werkes (Englisch):Applied surface science
Jahr der Erstveröffentlichung:2005
Verlag:North-Holland
Verlagsort:Amsterdam
Jahrgang/Band:247
Erste Seite:406
Letzte Seite:411
Freie Schlagwörter:Doping thin films; Laser ablation; Laser beam machining; Polymers-radiation effects
DOI:10.1016/j.apsusc.2005.01.078
ISSN:0169-4332
ISSN:1873-5584
Verfügbarkeit des Dokuments:Physisches Exemplar in der Bibliothek der BAM vorhanden ("Hardcopy Access")
Bibliotheksstandort:Sonderstandort: Publica-Schrank
Datum der Freischaltung:19.02.2016
Referierte Publikation:Ja
Datum der Eintragung als referierte Publikation:01.06.2005
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