Ex-situ XPS-investigation of the interface between PE-CVD SiO2 and wet chemically etched MO-CVD epitaxial layers of In0.53Ga0.47As

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Autor*innen:Mathias ProcopORCiD, K. Wandel, R. Verucchi
Dokumenttyp:Zeitschriftenartikel
Veröffentlichungsform:Verlagsliteratur
Sprache:Englisch
Titel des übergeordneten Werkes (Englisch):Fresenius' journal of analytical chemistry
Jahr der Erstveröffentlichung:1995
Verlag:Springer
Verlagsort:Berlin
Jahrgang/Band:353
Erste Seite:647
Letzte Seite:654
ISSN:0937-0633
Verfügbarkeit des Dokuments:Physisches Exemplar in der Bibliothek der BAM vorhanden ("Hardcopy Access")
Bibliotheksstandort:Sonderstandort: Publica-Schrank
Datum der Freischaltung:19.02.2016
Referierte Publikation:Nein
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