Tailored novolak resins for advanced photoresists by a two-step procedure - new insight into the molecular structure by coupling GPC and MALDI-TOF-MS

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Autor*innen:F. Reuther, Ralph-Peter Krüger, Günter Schulz, G. Baehr, U. Westerwelle, G. Gruetzner
Persönliche Herausgeber*innen:F. M. Houlihan
Dokumenttyp:Beitrag zu einem Sammelband
Veröffentlichungsform:Verlagsliteratur
Sprache:Englisch
Titel des übergeordneten Werkes (Englisch):Advances in resist technology and processing XVII
Jahr der Erstveröffentlichung:2000
Herausgeber (Institution):Conference on Advances in Resist Technology and Processing
Verlag:SPIE
Verlagsort:Bellingham
Ausgabe/Heft:3999
Erste Seite:464
Letzte Seite:471
Freie Schlagwörter:Chromatography; Gel permeation; MALDI-TOF-MS; Novolak; Structure; Synthesis
Veranstaltung:17th Annual SPIE Conference on Advances in Resist Technology and Processing
Veranstaltungsort:Santa Clara, CA, USA
Beginndatum der Veranstaltung:2000-02-28
Enddatum der Veranstaltung:2000-03-01
ISSN:1605-7422
ISBN:0-8194-3617-8
Bemerkung:
Serientitel: SPIE proceedings series – Series title: SPIE proceedings series
Verfügbarkeit des Dokuments:Physisches Exemplar in der Bibliothek der BAM vorhanden ("Hardcopy Access")
Bibliotheksstandort:Sonderstandort: Publica-Schrank
Datum der Freischaltung:19.02.2016
Referierte Publikation:Nein
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