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Laser induced gas breakdown in reactive mixtures containing halides of boron and silicon: diagnostics and modeling

  • We run two pilot LIP experiments in reactive gas mixtures. First, LIP is excited in BCl3 or BF3 plus H2 or CH4 to evaluate the efficiency of deposition of solid boron and boron carbide, materials that are largely used for refractory coatings. Second, we investigate a possibility of synthesis of fluorochlorosilanes SiFxCl4-x (x = 1, 2, 3) by LIP induced in SiF4+SiCl4 gas mixtures. Using fluorochlorosilanes with different combinations of F and Cl in the SiFxCly molecule may add flexibility in processes of silicon deposition and etching. The gases used and solid deposits are analyzed by optical emission spectroscopy (OES) and IR and mass spectrometry (MS). We also model the laser induced plasma by performing static equilibrium chemistry calculations to see whether desired reaction products are thermodynamically favorable and dynamic calculations of the expanding plasma plume to see how and where the products form.

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  • Gornushkin LIBS Szeged Dec 1 2020_1.pdf
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Autor*innen:Igor B. GornushkinORCiD
Koautor*innen:P. Sennikov
Dokumenttyp:Vortrag
Veröffentlichungsform:Präsentation
Sprache:Englisch
Jahr der Erstveröffentlichung:2020
Organisationseinheit der BAM:1 Analytische Chemie; Referenzmaterialien
1 Analytische Chemie; Referenzmaterialien / 1.9 Chemische und optische Sensorik
DDC-Klassifikation:Naturwissenschaften und Mathematik / Chemie / Analytische Chemie
Freie Schlagwörter:Chemical vapor deposition; Hydrogen reduction; Laser induced dielectric breakdown; Silicon halides
Themenfelder/Aktivitätsfelder der BAM:Chemie und Prozesstechnik
Veranstaltung:International Workshop on Laser Induced breakdown Spectroscopy
Veranstaltungsort:Online meeting
Beginndatum der Veranstaltung:01.12.2020
Enddatum der Veranstaltung:02.12.2020
Verfügbarkeit des Dokuments:Datei im Netzwerk der BAM verfügbar ("Closed Access")
Datum der Freischaltung:03.12.2020
Referierte Publikation:Nein
Eingeladener Vortrag:Nein
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