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Features of Plasma-Chemical Hydrogen Reduction of Volatile Silicon and Germanium Chlorides in RF-arc Discharge

  • The processes of hydrogen reduction of silicon and germanium chlorides under the conditions of radio-frequency (40.68 MHz) counteracted arc discharge stabilized between two rod electrodes were investigated. The main gas-phase and solid products of plasma-chemical transformations were determined. Thermodynamic analysis of SiCl4 + H2 and GeCl4 + H2 systems was carried out. It is shown that under the implemented experimental conditions, equilibrium components of the products are established. The detected spectra of chemical activity were studied, which gave reason to assume that the molecular mechanism of the hydrogen reduction process is the main one. The impurity composition of gas-phase and solid reaction products was investigated. The possibility of single-stage production of high-purity Si and Ge mainly in the form of compact ingots, as well as high-purity chlorosilanes and trichlorogermane, was shown.

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Autor*innen:Igor Gornushkin, R.A. Kornev, L.V. Shabarova, A.A. Ermakov, G.M. Mochalov, N.V. Rekunov, V.A. Medov, A.D. Chaschina, A.A. Kalinina
Dokumenttyp:Sonstiges
Veröffentlichungsform:Verlagsliteratur
Sprache:Englisch
Titel des übergeordneten Werkes (Englisch):Preprints.org
Jahr der Erstveröffentlichung:2023
Organisationseinheit der BAM:1 Analytische Chemie; Referenzmaterialien
1 Analytische Chemie; Referenzmaterialien / 1.3 Instrumentelle Analytik
Veröffentlichende Institution:Bundesanstalt für Materialforschung und -prüfung (BAM)
Erste Seite:1
Letzte Seite:14
DDC-Klassifikation:Naturwissenschaften und Mathematik / Chemie / Analytische Chemie
Freie Schlagwörter:Germanium; Germanium chloride; Hydrogen reduction; RF-arc discharge; Silicon; Silicon chloride; Thermodynamic
Themenfelder/Aktivitätsfelder der BAM:Chemie und Prozesstechnik
DOI:10.20944/preprints202311.1412.v1
URN:urn:nbn:de:kobv:b43-588909
Verfügbarkeit des Dokuments:Datei für die Öffentlichkeit verfügbar ("Open Access")
Lizenz (Deutsch):License LogoCreative Commons - CC BY - Namensnennung 4.0 International
Datum der Freischaltung:27.11.2023
Referierte Publikation:Nein
Schriftenreihen ohne Nummerierung:Arbeitspapiere der BAM
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