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Plasma-Chemical Disposal of Silicon and Germanium Tetrachlorides Waste by Hydrogen Reduction

  • The processes of hydrogen reduction of silicon and germanium chlorides under the conditions of high-frequency (40.68 MHz) counteracted arc discharge stabilized between two rod electrodes are investigated. The main gas-phase and solid products of plasma-chemical transformations are determined. Thermodynamic analysis of SiCl4 + H2 and GeCl4 + H2 systems for optimal process parameters was carried out. Using the example of hydrogen reduction of SiCl4 by the method of numerical modeling, gas-dynamic and thermal processes for this type of discharge are investigated. The impurity composition of gas-phase and solid reaction products is investigated. The possibility of single-stage production of high-purity Si and Ge mainly in the form of compact ingots, as well as high-purity chlorosilanes and trichlorogermane, is shown.

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Autor*innen:Roman Kornev, Igor GornushkinORCiD, Lubov Shabarova, Alena Kadomtseva, Georgy Mochalov, Nikita RekunovORCiD, Sergey Romanov, Vitaly MedovORCiD, Darya Belousova, Nikita Maleev
Dokumenttyp:Zeitschriftenartikel
Veröffentlichungsform:Verlagsliteratur
Sprache:Englisch
Titel des übergeordneten Werkes (Englisch):Sci
Jahr der Erstveröffentlichung:2024
Organisationseinheit der BAM:1 Analytische Chemie; Referenzmaterialien
1 Analytische Chemie; Referenzmaterialien / 1.3 Instrumentelle Analytik
Veröffentlichende Institution:Bundesanstalt für Materialforschung und -prüfung (BAM)
Verlag:MDPI AG
Jahrgang/Band:6
Ausgabe/Heft:1
Aufsatznummer:1
Erste Seite:1
Letzte Seite:12
DDC-Klassifikation:Naturwissenschaften und Mathematik / Chemie / Analytische Chemie
Freie Schlagwörter:Germanium chlorides; High-frequency arc discharge; Hydrogen reduction; Silicon chlorides
Themenfelder/Aktivitätsfelder der BAM:Chemie und Prozesstechnik
Chemie und Prozesstechnik / Chemische Charakterisierung und Spurenanalytik
DOI:10.3390/sci6010001
URN:urn:nbn:de:kobv:b43-594454
Verfügbarkeit des Dokuments:Datei für die Öffentlichkeit verfügbar ("Open Access")
Lizenz (Deutsch):License LogoCreative Commons - CC BY - Namensnennung 4.0 International
Datum der Freischaltung:30.01.2024
Referierte Publikation:Nein
Schriftenreihen ohne Nummerierung:Wissenschaftliche Artikel der BAM
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