Features of hydrogen reduction of SiF4 in ICP plasma
- Probe diagnostics is used to determine the electron temperature and electron number density in a low pressure inductively coupled plasma (ICP) ignited in the mixture of SiF4, Ar and H2. Emission spectra of mixtures with different stoichiometry of components are investigated and the electron density distribution function (EDDF) is estimated. The optimal conditions for high conversion of SiF4 into Si are found by studying the dependence of the yield of silicon upon the ratio of reagents. The maximum achieved yield of silicon is 85% under the optimal conditions. Based on the analysis of IR and MS spectra of exhaust gases, 5% of initial SiF4 converts into volatile fluorosilanes. A rate of production of Si is 0.9 g/h at the energy consumption 0.56 kWh /g.
Autor*innen: | R. Kornev, Igor B. GornushkinORCiD, V. Nazarov, V. Shkrunin, A. Ermakov |
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Dokumenttyp: | Zeitschriftenartikel |
Veröffentlichungsform: | Verlagsliteratur |
Sprache: | Englisch |
Titel des übergeordneten Werkes (Englisch): | Spectrochimica Acta Part B |
Jahr der Erstveröffentlichung: | 2022 |
Organisationseinheit der BAM: | 1 Analytische Chemie; Referenzmaterialien |
1 Analytische Chemie; Referenzmaterialien / 1.3 Instrumentelle Analytik | |
Verlag: | Elsevier B.V. |
Jahrgang/Band: | 195 |
Erste Seite: | 106502 |
DDC-Klassifikation: | Naturwissenschaften und Mathematik / Chemie / Analytische Chemie |
Freie Schlagwörter: | Emission spectroscopy; PECVD; Plasma enhanced chemical vapor deposition; Probe diagnostics; Silicon tetrafluoride |
Themenfelder/Aktivitätsfelder der BAM: | Chemie und Prozesstechnik |
DOI: | 10.1016/j.sab.2022.106502 |
ISSN: | 0584-8547 |
Verfügbarkeit des Dokuments: | Datei im Netzwerk der BAM verfügbar ("Closed Access") |
Datum der Freischaltung: | 20.07.2022 |
Referierte Publikation: | Ja |
Datum der Eintragung als referierte Publikation: | 08.09.2022 |