Single Femtosecond Laser Pulse induced Amorphization, Re-crystallization and Native Oxide Removal at Silicon Wafer Surfaces
- Single femtosecond laser pulse induced amorphization, re-crystallization and native oxide layer removal at silicon wafer surfaces of different crystal orientation is studied via spectroscopic imaging ellipsometry, atomic force microscopy, and high-resolution transmission electron microscopy.
Autor*innen: | Jörn BonseORCiD |
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Koautor*innen: | Camilo Florian, Daniel Fischer, K. Freiberg, M. Duwe, Mario Sahre, S. Schneider, Andreas HertwigORCiD, Jörg Krüger, M. Rettenmayr, Uwe Beck, A. Undisz |
Dokumenttyp: | Vortrag |
Veröffentlichungsform: | Präsentation |
Sprache: | Englisch |
Jahr der Erstveröffentlichung: | 2023 |
Organisationseinheit der BAM: | 6 Materialchemie |
6 Materialchemie / 6.1 Oberflächen- und Dünnschichtanalyse | |
6 Materialchemie / 6.2 Material- und Oberflächentechnologien | |
DDC-Klassifikation: | Technik, Medizin, angewandte Wissenschaften / Ingenieurwissenschaften / Ingenieurwissenschaften und zugeordnete Tätigkeiten |
Technik, Medizin, angewandte Wissenschaften / Ingenieurwissenschaften / Angewandte Physik | |
Freie Schlagwörter: | Femtosecond laser; Laser-induced amorphization; Native oxide layer; Spectroscopic imaging ellipsometry; Transmission electron microscopy |
Themenfelder/Aktivitätsfelder der BAM: | Energie |
Material | |
Material / Nano | |
Veranstaltung: | 2023 Conference on Lasers and Electro-Optics/Europe – European Quantum Electronics Conferences |
Veranstaltungsort: | Munich, Germany |
Beginndatum der Veranstaltung: | 26.06.2023 |
Enddatum der Veranstaltung: | 30.06.2023 |
Verfügbarkeit des Dokuments: | Datei im Netzwerk der BAM verfügbar ("Closed Access") |
Datum der Freischaltung: | 03.07.2023 |
Referierte Publikation: | Nein |
Eingeladener Vortrag: | Nein |