Gradient porous silicon nitride prepared via vacuum foaming and freeze drying
- Gradient porous silicon nitride (Si3N4) was fabricated by a novel vacuum foaming and freeze drying process. Aqueous Si3N4 slurries were foamed at vacuum pressure of 50–90 kPa, the green body was obtained by the freeze drying process, a gradient pore structure with porosities of 72–90% was achieved after pressureless sintering at 1680 °C. The porosity was increased with decreasing vacuum pressure. The pore structure consists of large pores (~100 μm) on top, medium pores (~45 μm) on the wall of the large pores, and small pores (~0.7 μm) in the matrix. Such gradient porous Si3N4 with macro- and micro-pores has potential application as high temperature filters.
Autor*innen: | Dongxu Yao, Y. Xia, K.-h. Zuo, Y.-P. Zeng, D. Jiang, Jens GünsterORCiD, J.G. Heinrich |
---|---|
Dokumenttyp: | Zeitschriftenartikel |
Veröffentlichungsform: | Verlagsliteratur |
Sprache: | Englisch |
Titel des übergeordneten Werkes (Englisch): | Materials letters |
Jahr der Erstveröffentlichung: | 2015 |
Verlag: | Elsevier B.V. |
Verlagsort: | Amsterdam |
Jahrgang/Band: | 141 |
Erste Seite: | 138 |
Letzte Seite: | 140 |
Freie Schlagwörter: | Graded; Silicon nitride |
DOI: | 10.1016/j.matlet.2014.11.067 |
ISSN: | 0167-577x |
ISSN: | 1873-4979 |
Verfügbarkeit des Dokuments: | Datei im Netzwerk der BAM verfügbar ("Closed Access") |
Datum der Freischaltung: | 20.02.2016 |
Referierte Publikation: | Ja |
Datum der Eintragung als referierte Publikation: | 21.12.2015 |