Das Suchergebnis hat sich seit Ihrer Suchanfrage verändert. Eventuell werden Dokumente in anderer Reihenfolge angezeigt.
  • Treffer 8 von 373
Zurück zur Trefferliste

The Effect of Copper Vacancies on the Anion Position of Chalcopyrite Type CuGaS2

  • The prediction of structural parameters and optoelectronic properties of compound semiconductors is very important. However, calculations often neglect chemical variability and structural defects. In chalcopyrite type semiconductors one of the major defects are copper vacancies (V Cu). The four cation neighbors of the anion determine its position in the chalcopyrite type structure expressed by the Wyckoff position 8d (x, 1/4, 1/8). Intrinsic point defects like V Cu and anti-sites may cause variations of the Anion position in the middle of the cation tetrahedron, especially in the Anion position Parameter x. For stoichiometric chalcopyrite type compounds a formalism according to the principle of conservation of tetrahedral bonds (CTB) can be applied to calculate the anion position parameter, but it fails in the case of off-stoichiometric chalcopyrites. This case study of chalcopyrite type CuGaS 2 and Mn-substituted GuGaS 2 shows that the experimentally determined anion positionThe prediction of structural parameters and optoelectronic properties of compound semiconductors is very important. However, calculations often neglect chemical variability and structural defects. In chalcopyrite type semiconductors one of the major defects are copper vacancies (V Cu). The four cation neighbors of the anion determine its position in the chalcopyrite type structure expressed by the Wyckoff position 8d (x, 1/4, 1/8). Intrinsic point defects like V Cu and anti-sites may cause variations of the Anion position in the middle of the cation tetrahedron, especially in the Anion position Parameter x. For stoichiometric chalcopyrite type compounds a formalism according to the principle of conservation of tetrahedral bonds (CTB) can be applied to calculate the anion position parameter, but it fails in the case of off-stoichiometric chalcopyrites. This case study of chalcopyrite type CuGaS 2 and Mn-substituted GuGaS 2 shows that the experimentally determined anion position Parameter x deviate from values calculated by CTB approach. The systematic investigation of off-stoichiometric CuGaS 2 and Mn-substituted GuGaS 2 demonstrates the effect of copper vacancies on the average radii of the cation sites (Wyckoff positions 4a and 4b) as well as on the anion position Parameter x. By applying an elaborated CTB Approach implementing copper vacancies an agreement between experimental and calculated anion position Parameter x can be obtained.zeige mehrzeige weniger

Volltext Dateien herunterladen

  • The Effect of Copper Vacancies on the Anion Position of Chalcopyrite Type CuGaS2.pdf
    eng

Metadaten exportieren

Weitere Dienste

Teilen auf Twitter Suche bei Google Scholar Anzahl der Zugriffe auf dieses Dokument
Metadaten
Autor*innen:J. Marquardt, G. Gurieva, Christiane Stephan-ScherbORCiD, S. Schorr
Dokumenttyp:Zeitschriftenartikel
Veröffentlichungsform:Verlagsliteratur
Sprache:Englisch
Titel des übergeordneten Werkes (Englisch):Physica Status Solidi A
Jahr der Erstveröffentlichung:2019
Organisationseinheit der BAM:5 Werkstofftechnik
5 Werkstofftechnik / 5.0 Abteilungsleitung und andere
Verlag:Wiley
Jahrgang/Band:216
Ausgabe/Heft:15
Erste Seite:1800882
DDC-Klassifikation:Naturwissenschaften und Mathematik / Chemie / Analytische Chemie
Technik, Medizin, angewandte Wissenschaften / Ingenieurwissenschaften / Angewandte Physik
Freie Schlagwörter:Chalcogenides; Copper vacancies; Neutron diffraction
Themenfelder/Aktivitätsfelder der BAM:Chemie und Prozesstechnik
Energie
DOI:10.1002/pssa.201800882
Verfügbarkeit des Dokuments:Datei im Netzwerk der BAM verfügbar ("Closed Access")
Datum der Freischaltung:10.04.2019
Referierte Publikation:Ja
Datum der Eintragung als referierte Publikation:26.08.2019
Einverstanden
Diese Webseite verwendet technisch erforderliche Session-Cookies. Durch die weitere Nutzung der Webseite stimmen Sie diesem zu. Unsere Datenschutzerklärung finden Sie hier.