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New reference material for imaging XPS (X-ray photoelectron spectroscopy) instrument characterization

  • Reference materials without variations in topography are essential for the characterization of imaging XPS (X-ray Photoelectron Spectroscopy) Instruments. Therefore a new fabrication process for this kind of zero-topography reference material was developed at PTB and resulted in first prototypes. The fabrication process and first measurement results will be presented in this paper.

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Autor*innen:S. Bütefisch, T. Weimann, I. Busch, H.-U. Danzebrink, Thomas Gross, Wolfgang UngerORCiD, Thomas Wirth
Dokumenttyp:Beitrag zu einem Tagungsband
Veröffentlichungsform:Verlagsliteratur
Sprache:Englisch
Titel des übergeordneten Werkes (Englisch):Sensor 2015 - 17th International conference on sensors and measurement technology (Proceedings - AMA conferences 2015)
Jahr der Erstveröffentlichung:2015
Herausgeber (Institution):AMA Service GmbH
Erste Seite:Chapter P7, 821
Letzte Seite:825
Freie Schlagwörter:Imaging XPS; Micro technology; Reference material; Topography free
Veranstaltung:Sensor 2015 - 17th International conference on sensors and measurement technology
Veranstaltungsort:Nuremberg, Germany
Beginndatum der Veranstaltung:19.05.2015
Enddatum der Veranstaltung:21.05.2015
DOI:10.5162/sensor2015/P7.1
ISBN:978-3-9813484-8-4
Verfügbarkeit des Dokuments:Datei im Netzwerk der BAM verfügbar ("Closed Access")
Datum der Freischaltung:20.02.2016
Referierte Publikation:Nein
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