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Measurement of element mass distributions in particle ensembles applying ICP-OES

  • End-on inductively coupled plasma optical emission spectrometry (ICP-OES) of the relative mass distributions in ensembles of spherical SiO2 particles with small and large size variations is presented. The particles are introduced into the ICP by injection of monodisperse microdroplets generated from diluted particle suspensions. The spectroscopic signals, taking into account the peak or the integrated intensities of the Si 288.16 nm line, are compared with mass distribution measurements of corresponding SiO2 particle ensembles performed by Scanning Electron Microscopy (SEM). It is found that the relative mass distributions measured by ICP-OES are in good agreement with SEM measurements if the spectroscopic signal to noise ratio is sufficiently large indicating that intensity variations due to different particle trajectories in the ICP are less important than expected.

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Autor*innen:Ayrat Murtazin, S. Groh, Kay Niemax
Dokumenttyp:Zeitschriftenartikel
Veröffentlichungsform:Verlagsliteratur
Sprache:Englisch
Titel des übergeordneten Werkes (Englisch):Journal of analytical atomic spectrometry
Jahr der Erstveröffentlichung:2010
Verlag:Royal Society of Chemistry
Verlagsort:London
Jahrgang/Band:25
Ausgabe/Heft:9
Erste Seite:1395
Letzte Seite:1401
DOI:10.1039/c004946h
ISSN:0267-9477
ISSN:1364-5544
Verfügbarkeit des Dokuments:Physisches Exemplar in der Bibliothek der BAM vorhanden ("Hardcopy Access")
Bibliotheksstandort:Sonderstandort: Publica-Schrank
Datum der Freischaltung:19.02.2016
Referierte Publikation:Ja
Datum der Eintragung als referierte Publikation:17.01.2011
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