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Ion-assisted vs. Plasma-assisted PVD: Preparation of Optical Multi-layers in a Versatile Cluster System Implementing Electron Beam and Sputter Technology

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Autor*innen:Uwe Beck, Andreas HertwigORCiD, Georg Reiners, Matthias Weise, J. Hartung, E. Reinhold, J. Strümpfel
Dokumenttyp:Beitrag zu einem Tagungsband
Veröffentlichungsform:Verlagsliteratur
Sprache:Englisch
Titel des übergeordneten Werkes (Englisch):47th Annual Technical Conference Proceedings
Jahr der Erstveröffentlichung:2004
Verlag:Society of Vacuum Coaters
Erste Seite:86
Letzte Seite:90
Freie Schlagwörter:Cluster Deposition System; Ion-assisted PVD; Optical Multi-layers; Plasma-assisted PVD; Thin Film Technology
ISSN:0737-5921
Verfügbarkeit des Dokuments:Physisches Exemplar in der Bibliothek der BAM vorhanden ("Hardcopy Access")
Bibliotheksstandort:Sonderstandort: Publica-Schrank
Datum der Freischaltung:19.02.2016
Referierte Publikation:Nein
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