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High precision micropatterning of polydopamine by Multiphoton Lithography

  • Mussel-inspired polydopamine (PDA) initiated a multifunctional modification route that leads to the generation of novel advanced materials and their applications. However, existing PDA deposition techniques still exhibit poor spatial control, have a very limited capability of micropatterning and do not allow to locally tune PDA topography. Herein, we demonstrate PDA deposition based on Multiphoton Lithography (MPL) that enables full spatial and temporal control with nearly total freedom of patterning design. Using MPL, we achieve 2D microstructures of complex design with pattern precision of 0.8 μm without the need of a photomask or stamp. Moreover, this approach permits adjusting the morphology and thickness of the fabricated microstructure within one deposition step, resulting in a unique tunability of materials properties. The chemical composition of PDA is confirmed and its ability for protein enzyme immobilization is demonstrated. This work presents a new methodology for highMussel-inspired polydopamine (PDA) initiated a multifunctional modification route that leads to the generation of novel advanced materials and their applications. However, existing PDA deposition techniques still exhibit poor spatial control, have a very limited capability of micropatterning and do not allow to locally tune PDA topography. Herein, we demonstrate PDA deposition based on Multiphoton Lithography (MPL) that enables full spatial and temporal control with nearly total freedom of patterning design. Using MPL, we achieve 2D microstructures of complex design with pattern precision of 0.8 μm without the need of a photomask or stamp. Moreover, this approach permits adjusting the morphology and thickness of the fabricated microstructure within one deposition step, resulting in a unique tunability of materials properties. The chemical composition of PDA is confirmed and its ability for protein enzyme immobilization is demonstrated. This work presents a new methodology for high precision and complete control of PDA deposition, enabling PDA incorporation in applications where fine and precise local surface functionalization is required. Possible applications include multicomponent functional elements and devices in microfluidics or lab-on-a-chip systems.zeige mehrzeige weniger

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  • Topolniak_AdvMat_High_precision_micropatterning_of_polydopamine_by_Multiphoton_Lithography.pdf
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Autor*innen:Ievgeniia Topolniak, Anna Maria ElertORCiD, Xenia KniggeORCiD, G. C. Ciftci, Jörg RadnikORCiD, Heinz SturmORCiD
Dokumenttyp:Zeitschriftenartikel
Veröffentlichungsform:Verlagsliteratur
Sprache:Englisch
Titel des übergeordneten Werkes (Englisch):Advanced Materials
Jahr der Erstveröffentlichung:2022
Organisationseinheit der BAM:6 Materialchemie
6 Materialchemie / 6.1 Oberflächen- und Dünnschichtanalyse
6 Materialchemie / 6.6 Physik und chemische Analytik der Polymere
Verlag:Wiley online library
Jahrgang/Band:34
Ausgabe/Heft:18
Erste Seite:e2109509
DDC-Klassifikation:Technik, Medizin, angewandte Wissenschaften / Ingenieurwissenschaften / Ingenieurwissenschaften und zugeordnete Tätigkeiten
Freie Schlagwörter:Micropatterning; Multiphoton lithography; Polydopamine
Themenfelder/Aktivitätsfelder der BAM:Material
Material / Additive Fertigung
DOI:10.1002/adma.202109509
Verfügbarkeit des Dokuments:Datei im Netzwerk der BAM verfügbar ("Closed Access")
Datum der Freischaltung:28.03.2022
Referierte Publikation:Ja
Datum der Eintragung als referierte Publikation:28.03.2022
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