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Ion-assisted vs. Plasma-assisted PVD: Preparation of Optical Multi-layers in a Versatile Cluster System Implementing Electron Beam and Sputter Technology
Autor*innen: | Uwe Beck, Andreas HertwigORCiD, Georg Reiners, Matthias Weise, J. Hartung, E. Reinhold, J. Strümpfel |
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Dokumenttyp: | Beitrag zu einem Tagungsband |
Veröffentlichungsform: | Verlagsliteratur |
Sprache: | Englisch |
Titel des übergeordneten Werkes (Englisch): | 47th Annual Technical Conference Proceedings |
Jahr der Erstveröffentlichung: | 2004 |
Verlag: | Society of Vacuum Coaters |
Erste Seite: | 86 |
Letzte Seite: | 90 |
Freie Schlagwörter: | Cluster Deposition System; Ion-assisted PVD; Optical Multi-layers; Plasma-assisted PVD; Thin Film Technology |
ISSN: | 0737-5921 |
Verfügbarkeit des Dokuments: | Physisches Exemplar in der Bibliothek der BAM vorhanden ("Hardcopy Access") |
Bibliotheksstandort: | Sonderstandort: Publica-Schrank |
Datum der Freischaltung: | 19.02.2016 |
Referierte Publikation: | Nein |