Advanced thin film technology for ultrahigh resolution X-ray microscopy
- Further progress in the spatial resolution of X-ray microscopes is currently impaired by fundamental limitations in the production of X-ray diffractive lenses. Here, we demonstrate how advanced thin film technologies can be applied to boost the fabrication and characterization of ultrahigh resolution X-ray optics. Specifically, Fresnel zone plates were fabricated by combining electron-beam lithography with atomic layer deposition and focused ion beam induced deposition. They were tested in a scanning transmission X-ray microscope at 1.2 keV photon energy using line pair structures of a sample prepared by metalorganic vapor phase epitaxy. For the first time in X-ray microscopy, features below 10 nm in width were resolved.
Autor*innen: | J. Vila-Comamala, K. Jefimovs, J. Raabe, T. Pilvi, R.H. Fink, Mathias Senoner, A. Maaßdorf, M. Ritala, C. David |
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Dokumenttyp: | Zeitschriftenartikel |
Veröffentlichungsform: | Verlagsliteratur |
Sprache: | Englisch |
Titel des übergeordneten Werkes (Englisch): | Ultramicroscopy |
Jahr der Erstveröffentlichung: | 2009 |
Verlag: | Elsevier |
Verlagsort: | New York, NY |
Jahrgang/Band: | 109 |
Ausgabe/Heft: | 11 |
Erste Seite: | 1360 |
Letzte Seite: | 1364 |
Freie Schlagwörter: | Atomic layer deposition; BAM-L200; Electron-beam lithography; Laterale Auflösung; Referenzmaterial; Röntgenmikroskopie; X-ray diffractive optics; X-ray microscopy; Zonenplatte |
DOI: | 10.1016/j.ultramic.2009.07.005 |
ISSN: | 0304-3991 |
Verfügbarkeit des Dokuments: | Physisches Exemplar in der Bibliothek der BAM vorhanden ("Hardcopy Access") |
Bibliotheksstandort: | Sonderstandort: Publica-Schrank |
Datum der Freischaltung: | 19.02.2016 |
Referierte Publikation: | Ja |
Datum der Eintragung als referierte Publikation: | 02.10.2009 |