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Advanced thin film technology for ultrahigh resolution X-ray microscopy

  • Further progress in the spatial resolution of X-ray microscopes is currently impaired by fundamental limitations in the production of X-ray diffractive lenses. Here, we demonstrate how advanced thin film technologies can be applied to boost the fabrication and characterization of ultrahigh resolution X-ray optics. Specifically, Fresnel zone plates were fabricated by combining electron-beam lithography with atomic layer deposition and focused ion beam induced deposition. They were tested in a scanning transmission X-ray microscope at 1.2 keV photon energy using line pair structures of a sample prepared by metalorganic vapor phase epitaxy. For the first time in X-ray microscopy, features below 10 nm in width were resolved.

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Metadaten
Autoren/innen:J. Vila-Comamala, K. Jefimovs, J. Raabe, T. Pilvi, R.H. Fink, Mathias Senoner, A. Maaßdorf, M. Ritala, C. David
Dokumenttyp:Zeitschriftenartikel
Veröffentlichungsform:Verlagsliteratur
Sprache:Englisch
Titel des übergeordneten Werkes (Englisch):Ultramicroscopy
Jahr der Erstveröffentlichung:2009
Verlag:Elsevier
Verlagsort:New York, NY
Jahrgang/Band:109
Ausgabe/Heft:11
Erste Seite:1360
Letzte Seite:1364
Freie Schlagwörter:Atomic layer deposition; BAM-L200; Electron-beam lithography; Laterale Auflösung; Referenzmaterial; Röntgenmikroskopie; X-ray diffractive optics; X-ray microscopy; Zonenplatte
DOI:https://doi.org/10.1016/j.ultramic.2009.07.005
ISSN:0304-3991
Verfügbarkeit des Dokuments:Physisches Exemplar in der Bibliothek der BAM vorhanden ("Hardcopy Access")
Bibliotheksstandort:Sonderstandort: Publica-Schrank
Datum der Freischaltung:19.02.2016
Referierte Publikation:Ja
Datum der Eintragung als referierte Publikation:02.10.2009