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Influence of film thickness and optical constants on femtosecond laser-induced ablation of hydrogenated amorphous carbon films

  • Hydrogenated amorphous carbon layers were deposited on BK7 glass in a plasma-assisted chemical vapor deposition process. Low and high refracting films with thicknesses d ranging from 11 nm to 5.8 µm were produced having refractive indices n between 1.68 and 2.41 and linear absorption coefficients of α~100 cm-1 and α~20000 cm-1 at 800 nm wavelength as a result of different plasma modes. Laser ablation thresholds Fth in dependence on d were determined using 30-fs laser pulses. Low absorbing layers show a constant Fth while Fth increases with rising d up to the optical penetration depth of light α-1 for high absorbing films.

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Autor*innen:Robert Koter, Matthias Weise, Andreas HertwigORCiD, Uwe Beck, Jörg KrügerORCiD
Dokumenttyp:Zeitschriftenartikel
Veröffentlichungsform:Verlagsliteratur
Sprache:Englisch
Titel des übergeordneten Werkes (Englisch):Journal of optoelectronics and advanced materials
Jahr der Erstveröffentlichung:2010
Verlag:INOE & INFM
Verlagsort:Bucharest
Jahrgang/Band:12
Ausgabe/Heft:3
Erste Seite:663
Letzte Seite:667
Freie Schlagwörter:Carbon (81.05.Uw); Laser-beam impact phenomena (79.20.Ds); Optical constants (78.20.Ci); Physical radiation damage (61.80.-x); Radiation treatment (81.40.Wx)
ISSN:1454-4164
Verfügbarkeit des Dokuments:Physisches Exemplar in der Bibliothek der BAM vorhanden ("Hardcopy Access")
Bibliotheksstandort:Sonderstandort: Publica-Schrank
Datum der Freischaltung:19.02.2016
Referierte Publikation:Ja
Datum der Eintragung als referierte Publikation:01.04.2010
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