• Treffer 1 von 1
Zurück zur Trefferliste

Breaking polymer chains by dynamic plowing lithography

  • The adhesion of poly(methyl methacrylate) (PMMA) and polystyrene (PS) films, whose surface has been previously structured by dynamic plowing lithography (DPL), has been measured by means of force–displacement curves. The different adhesion of modified and unmodified PS leads to the assumption that polymer chains are broken during DPL. After measuring the energy dissipated by the tip during DPL, in order to check that the transferred energy is sufficient to break covalent bonds, the polymer chain scission caused by the lithographic process has been definitely confirmed by size exclusion chromatography measurements of the lithographed films.

Metadaten exportieren

Weitere Dienste

Teilen auf Twitter Suche bei Google Scholar
Metadaten
Autoren/innen:Brunero Cappella, Heinz Sturm, Steffen Weidner
Dokumenttyp:Zeitschriftenartikel
Veröffentlichungsform:Verlagsliteratur
Sprache:Englisch
Titel des übergeordneten Werkes (Englisch):Polymer
Jahr der Erstveröffentlichung:2002
Verlag:Springer
Verlagsort:Berlin
Jahrgang/Band:43
Ausgabe/Heft:16
Erste Seite:4461
Letzte Seite:4466
Freie Schlagwörter:AFM; Chain scission; Nanolithography
DOI:https://doi.org/10.1016/S0032-3861(02)00285-9
ISSN:0032-3861
ISSN:1873-2291
Verfügbarkeit des Dokuments:Physisches Exemplar in der Bibliothek der BAM vorhanden ("Hardcopy Access")
Bibliotheksstandort:Sonderstandort: Publica-Schrank
Bibliotheksstandort:ZP 23
Datum der Freischaltung:19.02.2016
Referierte Publikation:Ja
Datum der Eintragung als referierte Publikation:31.10.2002