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Non-destructive chemical depth-profiling by variable excitation energy XPS: TFAA derivatized allyl alcohol - ethylene plasma polymer films

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Autor*innen:Iris Retzko, Renate Mix, Sufal Swaraj, Wolfgang UngerORCiD, N. Matsubayashi, M. Imamura, T. Tanaka, H. Shimada
Dokumenttyp:Sonstiges
Veröffentlichungsform:Verlagsliteratur
Sprache:Englisch
Titel des übergeordneten Werkes (Englisch):Photon factory activity report 2003, Part B - Users' report
Jahr der Erstveröffentlichung:2004
Verlag:KEK - High Energy Accelerator Research Organization
Verlagsort:Tsukuba
Jahrgang/Band:21
Erste Seite:76
Freie Schlagwörter:Oberflächenanalytik; Plasmapolymerisation
URL:http://pfwww.kek.jp/acr2003pdf/part_b/pf03b076.pdf
ISSN:1344-6339
Verfügbarkeit des Dokuments:Physisches Exemplar in der Bibliothek der BAM vorhanden ("Hardcopy Access")
Bibliotheksstandort:Sonderstandort: Publica-Schrank
Datum der Freischaltung:19.02.2016
Referierte Publikation:Nein
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